LTD 是 Low Temperature Deposition 的缩写，即低温沉积。在法兰上的LTD是指在半导体工艺中采用低温沉积技术的方法，常用于光学薄膜的制备。
低温沉积技术的主要优势在于它可以在相对较低的温度下进行，从而减少了对基片材料的热膨胀影响以及晶格缺陷的形成。它通常适用于对材料要求严格的领域，如光电子设备和光子学器件。
具体而言，低温沉积技术包括热蒸发，溅射，化学气相沉积（CVD）等多种方法。这些方法都能在低温下生成高品质的薄膜。通过调整沉积温度、沉积气体成分和反应时间等参数，可以实现对薄膜性质的精确控制。
总之，法兰上的LTD技术在半导体工艺中发挥着重要作用。它通过降低温度，提高薄膜质量，满足特定应用对材料性能的要求，并为光电子器件的发展提供了解决方案。
